Bandi per assegni di ricerca

CNR - Istituto per la microelettronica e microsistemi

Bando per assegno di ricerca
Descrizione del bando
Titolo del progetto di ricerca in italiano Sviluppo del processo di impianto ionico per la fabbricazione di dispositivi elettronici di potenza a base di Carburo di Silicio (SiC)
Titolo del progetto di ricerca in inglese Development of the ion implantation process for the manufacture of power electronic devices based on Silicon Carbide (SiC)
Campo principale della ricerca Physics
Sottocampo della ricerca Other
Settore Concorsuale 02 - Scienze fisiche
S.S.D FIS/01 - FISICA SPERIMENTALE
Descrizione sintetica in italiano
Descrizione sintetica in inglese
Data del bando 11/04/2018
Numero di assegnazioni per anno 1
E' richiesta mobilità internazionale? no
Paesi in cui può essere condotta la ricerca Italy
Paesi di residenza dei candidati EUROPE
Nazionalità dei candidati EUROPE
Sito web del bando http://www.urp.cnr.it

 

Dettagli dell'assegno di ricerca
Destinatari dell'assegno di ricerca (of target group) Experienced researcher or 4-10 yrs (Post-Doc)
Importo annuale 22000
Valuta Euro

 

Finanziatore
Nome dell'Ente finanziatore Consiglio Nazionale delle Ricerche - Istituto per la Microelettronica e Microsistemi
Tipologia dell'Ente Public research
Paese dell'Ente Italy
Città bologna
Sito web http://www.imm.cnr.it

 

Contatto presso l'Ente
E-mail direzione@bo.imm.cnr.it

 

EU Research Framework Programme
L'assegno finanziato/cofinanziato attraverso un EU Research Framework Programme? No

 

Dettagli per la candidatura
Data di scadenza del bando 26/04/2018