Bando per assegno di ricerca
Titolo del progetto di ricerca in italiano | Sviluppo del processo di impianto ionico per la fabbricazione di dispositivi elettronici di potenza a base di Carburo di Silicio (SiC) |
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Titolo del progetto di ricerca in inglese | Development of the ion implantation process for the manufacture of power electronic devices based on Silicon Carbide (SiC) |
Campo principale della ricerca | Physics |
Sottocampo della ricerca | Other |
Settore Concorsuale | 02 - Scienze fisiche |
S.S.D | FIS/01 - FISICA SPERIMENTALE |
Descrizione sintetica in italiano | Disegno, fabbricazione, caratterizzazione, e simulazione di dispositivi elettronici a base di carburo di silicio, politipi 3C-SiC e 4H-SiC |
Descrizione sintetica in inglese | Design, manufacture, characterization, and simulation of silicon carbide based electronic devices, 3C-SiC and 4H-SiC polytypes |
Data del bando | 11/04/2018 |
Numero di assegnazioni per anno | 1 |
E' richiesta mobilità internazionale? | no |
Paesi in cui può essere condotta la ricerca |
Italy |
Paesi di residenza dei candidati |
EUROPE |
Nazionalità dei candidati |
EUROPE |
Sito web del bando | http://www.urp.cnr.it |
Destinatari dell'assegno di ricerca (of target group) |
Experienced researcher or 4-10 yrs (Post-Doc) |
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Importo annuale | 22000 |
Valuta | Euro |
Nome dell'Ente finanziatore | Consiglio Nazionale delle Ricerche - Istituto per la Microelettronica e Microsistemi |
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Tipologia dell'Ente | Public research |
Paese dell'Ente | Italy |
Città | bologna |
Sito web | http://www.imm.cnr.it |
direzione@bo.imm.cnr.it |
L'assegno finanziato/cofinanziato attraverso un EU Research Framework Programme? | No |
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Data di scadenza del bando | 26/04/2018 |
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