Torna ai risultati della ricercaBando per assegno di ricerca
| Titolo del progetto di ricerca in italiano | Fabbricazione elementi ottici diffrattivi operanti in trasmissione o in riflessione che dovranno essere opportunamente strutturati per operare a lunghezze d’onda nel visibile o nel vicino infrarosso- Bando IOM AR 005-2018 TS |
|---|---|
| Titolo del progetto di ricerca in inglese | manufacturing of diffractive optical elements operating in transmission or in reflection that must be appropriately structured to operate at wavelengths in the visible or in the near infrared - Call IOM AR 005-2018 TS |
| Campo principale della ricerca | Physics |
| Sottocampo della ricerca | Applied physics |
| Settore Concorsuale | 02 - Scienze fisiche |
| S.S.D | - |
| Descrizione sintetica in italiano | L’attività prevede la fabbricaz.elementi ottici diffrattivi operanti in trasmissione o riflessione che dovranno essere opportun. strutturati per operare a lunghezze d’onda nel visibile o nel vicino infrarosso. Si prevede la fabbric. di spirali di fase per generaz.di fasci recanti momento angolare orbitale(OAM),di elementi ottici diffrattivi che implementino tecniche di(de)multiplazione OAM integrabili su piattaforme per applicaz. telecom e di metasuperfici in silicio per demultiplazione di modi di trasmissione.I processi fabbric. saranno molteplici, a seconda della lunghezza d’onda in esame, tipo di applicazione e del materiale di cui è costituito il substrato. Il candidato realizzerà nanostrutture a multi liv. di resist fotosensibile con litografia elettronica, etching su silicio per la fabbricaz. elementi ottici diffrattivi e metasuperfici, processi di replica di master su polimeri plastici o siliconici, svil. di processi per il trasferimento dello stampo polimerico su vetro |
| Descrizione sintetica in inglese | Specifically the research activity will comprise the manufacturing of spirals phase plates elements for the generation of beams bearing orbital angular momentum (OAM), of diffractive optical elements for (de) multiplexing of OAM modes and silicon metasurfaces for demultiplexing of transmission signal modes. The lithographic processes considered will be multiple, depending on the wavelength in question, the type of application and the material of which consists the substrate to pattern. The candidate must exploit electron beam lithography for the fabrication of multi level photosensitive resist nanostructures, etching of silicon for the manufacture of diffractive optical elements and metasurfaces, mold transfer on plastic polymers or silicone or polymeric glass |
| Data del bando | 04/06/2018 |
| Numero di assegnazioni per anno | 1 |
| E' richiesta mobilità internazionale? | no |
| Paesi in cui può essere condotta la ricerca |
Italy |
| Paesi di residenza dei candidati |
OTHER |
| Nazionalità dei candidati |
OTHER |
| Sito web del bando | http://bandi.urp.cnr.it/doc-assegni/documentazione/8021_DOC_IT.pdf |
| Destinatari dell'assegno di ricerca (of target group) |
More Experienced researcher or >10 yrs (Senior) |
|---|---|
| Il contratto prevede la copertura delle prestazioni sociali? | no |
| Importo annuale | 26000 |
| Valuta | Euro |
| Comprende lo stipendio dell'assegnista | yes |
| Comprende vitto e spese di viaggio | no |
| Comprende il costo della ricerca | no |
| Massima durata dell'assegno (mesi) | 12 |
| Criteri di selezione in italiano (breve descrizione) |
Valutazione dei titoli e colloquio requisiti: -diploma di laurea in Fisica o Scienza dei materiali; - e titolo di dottore di ricerca in Fisica o Scienza dei materiali di durata minima triennale - b) almeno due anni di esperienza scientifico-professionale post-dottorale, documentata anche da pubblicazioni scientifiche in litografia a fascio elettronico e ionico - c) esperienza e conoscenza di nanofabbricazione e di processi litografici in clean room, litografia elettronica e focused ion beam -conoscenza della lingua inglese -conoscenza della lingua italiana (solo per i candidati stranieri) |
| Criteri di selezione in inglese (breve descrizione) |
Titles evaluation and interview Requirements: •Master degree and PhD in physics or material science and Phd in physics or material science • The ideal candidate must be a physical or a materials scientist with documented experience in process of electron and ion beam lithography for more than 2 years after PhD • He/she must have experience and knowledge of procedures and working methods, experience of nanofabrication and development of processes in clean room, experience in electron beam lithography and focused ion beam |
| Processo di selezione in italiano (breve descrizione) | Il colloquio, per i candidati convocati, si terrà il giorno 9 Luglio alle ore 11.00 presso la Sede di Trieste Dell’Istituto IOM, Area Science Park–Basovizza, Ed. MM Strada Statale14 Km 163.5 – 34149 Trieste, Italy. |
| Processo di selezione in inglese (breve descrizione) | A reserve list of accepted applications will be set up. These candidates will be invited for an interview that it will be held on July 9th at 11.00 am (local time) c/o IOM Institute IOM, Area Science Park–Basovizza, Ed. MM Strada Statale14 Km 163.5 – 34149 Trieste, Italy |
| Nome dell'Ente finanziatore | CNR - Istituto Officina dei Materiali (IOM) |
|---|---|
| Tipologia dell'Ente | Public research |
| Paese dell'Ente | Italy |
| Città | TRIESTE |
| Codice postale | 34149 |
| Indirizzo | Area Science Park – Basovizza – Strata Statale 14 Km 163,5 – 34149 TRIESTE |
| Sito web | http://www.iom.cnr.it |
| supporto.reclutamento@spin.cnr.it |
| L'assegno finanziato/cofinanziato attraverso un EU Research Framework Programme? | No |
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| Data di scadenza del bando | 21/06/2018 |
|---|---|
| Come candidarsi | Other |