Bando per assegno di ricerca
Titolo del progetto di ricerca in italiano | Crescita mediante atomic layer deposition (ALD) e caratterizzazione di film sottili per neuroelettronica |
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Titolo del progetto di ricerca in inglese | Growth by atomic layer deposition and characterization of thin films for neuroelectronics |
Settore Concorsuale | 02 - Scienze fisiche |
S.S.D | - |
Descrizione sintetica in italiano | crescita mediante deposizione di strati atomici (ALD) di film sottili di ossidi isolanti e conduttivi e nitruri su substrati nanostrutturati in silicio per applicazioni in neuroelettronica. Caratterizzazione strutturale, chimica e funzionale (elettrica: impedenza e rumore elettrochimico) dei film. |
Descrizione sintetica in inglese | https://www.unimib.it/ateneo/gare-e-concorsi/cod-20a042 Growth by atomic layer deposition (ALD) of thin films of insulating and conductive oxides and nitrides on nanostructured silicon substrates for neuroelectronics. Thin films structural, chemical, and functional (electrical: impedance and electrochemical noise) characterization. |
Data del bando | 07/02/2020 |
Paesi in cui può essere condotta la ricerca |
AFRICA OCEANIA EUROPE NORTH AMERICA SOUTH AMERICA ASIA OTHER |
Paesi di residenza dei candidati |
OCEANIA NORTH AMERICA SOUTH AMERICA ASIA OTHER AFRICA EUROPE |
Nazionalità dei candidati |
OCEANIA NORTH AMERICA SOUTH AMERICA ASIA OTHER AFRICA EUROPE |
Sito web del bando | http://www.unimib.it |
Destinatari dell'assegno di ricerca (of target group) |
Early stage researcher or 0-4 yrs (Post graduate) Experienced researcher or 4-10 yrs (Post-Doc) More Experienced researcher or >10 yrs (Senior) |
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Nome dell'Ente finanziatore | Università degli studi di Milano Bicocca |
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Tipologia dell'Ente | Public research |
Paese dell'Ente | Italy |
Città | Milano |
Sito web | http://www.unimib.it |
bandi.assegni_borse@unimib.it |
L'assegno finanziato/cofinanziato attraverso un EU Research Framework Programme? | No |
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Data di scadenza del bando | 26/02/2020 |
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