Bando per assegno di ricerca
Titolo del progetto di ricerca in italiano | NFFA-MIUR Crescita di nanofili di isolanti topologici tramite epitassia da fasci molecolari - TIN - BANDO IOM AR 004/2020 TS |
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Titolo del progetto di ricerca in inglese | NFFA-MIUR Molecular Beam Epitaxy growth of v-Vi Topological Insulator Nanowires - TIN . CALL IOM AR 004/2020 TS |
Campo principale della ricerca | Physics |
Sottocampo della ricerca | Solid state physics |
Settore Concorsuale | 02 - Scienze fisiche |
S.S.D | - |
Descrizione sintetica in italiano | Crescita tramite epitassia da fasci molecolari (MBE) di nanofili di materiali isolanti topologici e studio della loro proprietà morfologiche, strutturali ed ed elettroniche. |
Descrizione sintetica in inglese | Growth of nanowires based on topological insulator materials and their morphological, structural and electronic characterization. |
Data del bando | 11/05/2020 |
Numero di assegnazioni per anno | 1 |
E' richiesta mobilità internazionale? | no |
Paesi in cui può essere condotta la ricerca |
Italy |
Paesi di residenza dei candidati |
OTHER |
Nazionalità dei candidati |
OTHER |
Sito web del bando | https://bandi.urp.cnr.it/doc-assegni/documentazione/9858_DOC_IT.pdf |
Destinatari dell'assegno di ricerca (of target group) |
Early stage researcher or 0-4 yrs (Post graduate) |
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Il contratto prevede la copertura delle prestazioni sociali? | yes |
Importo annuale | 19.367 |
Valuta | Euro |
Comprende lo stipendio dell'assegnista | yes |
Comprende vitto e spese di viaggio | no |
Comprende il costo della ricerca | no |
Massima durata dell'assegno (mesi) | 12 |
Criteri di selezione in italiano (breve descrizione) |
-Diploma di Laurea in Scienze dei Materiali conseguito secondo la normativa in vigore anteriormente al D.M. 509/99, oppure della Laurea Specialistica/Magistrale (D.M. 5 maggio 2004) -Saranno considerate preferenziali la comprovata esperienza in attività sperimentali nel campo della sintesi e caratterizzazione di nanostrutture di semiconduttori tramite tecniche di deposizione in ultra alto vuoto; -conoscenza della lingua inglese |
Criteri di selezione in inglese (breve descrizione) |
-Master in Material Science obtained in Italy or abroad -It will be considered preferential an established experience in synthesis and characterization of semiconductor nanostructures by ultra-high vacuum deposition techniques -good level of English and some knowledge of Italian |
Processo di selezione in italiano (breve descrizione) | Le candidature saranno valutate dal CNR-IOM. I candidati ammessi dovranno sostenere un colloquio che si terrà il 19/06/2020 alle ore 11:00 presso la Sede CNR-IOM di Trieste, Area Science Park–Basovizza, Ed. MM Strada Statale14 Km 163.5 – 34149 Trieste. E’ possibile sostenere colloquio in videoconferenza. I candidati interessati dovranno dichiararlo per iscritto all’atto della sottomissione della domanda. Sulla richiesta dovranno dichiarare tutte le informazioni per effettuare il collegamento. Durante il collegamento i candidati dovranno esibire il proprio documento d’identità. |
Processo di selezione in inglese (breve descrizione) |
The submitted applications will be evaluated by CNR. A reserve list of accepted applications will be set up. These candidates will be invited for an interview that it will held on the 19 June 2020 at 11:00 A.M. (local time) c/o IOM Institute IOM, Area Science Park–Basovizza, Ed. MM Strada Statale14 Km 163.5 – 34149 Trieste, Italy. It is possible to do the interview by videoconference, upon candidate request in written form sent with the application form. By request the candidate must declare all the information to make the connection. During the connection the candidate has to show a valid identity document. |
Nome dell'Ente finanziatore | CNR - Istituto Officina dei Materiali |
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Tipologia dell'Ente | Public research |
Paese dell'Ente | Italy |
Città | TRIESTE |
Codice postale | 34149 |
Sito web | http://www.iom.cnr.it |
iom.recruitment@iom.cnr.it | |
supporto.reclutamento@spin.cnr.it |
L'assegno finanziato/cofinanziato attraverso un EU Research Framework Programme? | No |
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Data di scadenza del bando | 29/05/2020 |
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Come candidarsi | Other |