Torna ai risultati della ricercaBando per assegno di ricerca
| Titolo del progetto di ricerca in italiano | Sviluppo di processi di infiltrazione di materiali ceramici mediante tecniche di CVI assistite da microonde |
|---|---|
| Titolo del progetto di ricerca in inglese | Development of infiltration processes for ceramic materials based on microwave-assisted CVI techniques |
| Campo principale della ricerca | Engineering |
| Sottocampo della ricerca | Industrial engineering |
| Settore Concorsuale | 09 - Ingegneria industriale e dell'informazione |
| S.S.D | ING-IND/22 - SCIENZA E TECNOLOGIA DEI MATERIALI |
| Descrizione sintetica in italiano | BANDO IPCF-AR-002-2021-PI L'attività di ricerca riguarderà lo sviluppo e la messa a punto di processi di CVI assistiti da microonde, condotti nel reattore disponibile presso IPCF Pisa. Il reattore verrà dotato di sorgenti di microonde a stato solido di nuova concezione, accordabili in frequenza. Verrà quindi messa a punto di una tecnica di riscaldamento completamente automatizzata, con aggancio alla frequenza di lavoro ottimale del reattore. L’analisi di questa frequenza permetterà di ottenere informazioni sulle proprietà dielettriche del materiale e quindi sullo stato di avanzamento del processo di infiltrazione. Verranno infine effettuate prove di infiltrazione di diversi materiali ceramici, sia a base di carburo di silicio che a base di carbonio, mediante CVI a temperature di circa 900 °C. I materiali così ottenuti verranno caratterizzati sia per le proprietà microstrutturali che meccaniche. |
| Descrizione sintetica in inglese | BANDO IPCF-AR-002-2021-PI The research activity will concern the development and setup of microwave-assisted CVI processes conducted in the reactor available at IPCF Pisa. The reactor will be equipped with newly developed solid-state microwave sources, enabling a frequency tuning. A fully automated heating technique will then be developed, in which the emission of the tunable sources will be locked to the optimal working frequency of the reactor. The analysis of this frequency will provide information on the dielectric properties of the material and therefore on the level of the infiltration process. Finally, infiltration tests will be carried out on various ceramic materials, both silicon carbide and carbon-based, by means of CVI at temperature of about 900 °C. The obtained materials will be characterized for both their microstructural and mechanical properties. |
| Data del bando | 25/05/2021 |
| Numero di assegnazioni per anno | 1 |
| Stanziamento annuale (indicativo) | 22.000 |
| E' richiesta mobilità internazionale? | no |
| Paesi in cui può essere condotta la ricerca |
Italy |
| Paesi di residenza dei candidati |
EUROPE |
| Nazionalità dei candidati |
EUROPE |
| Sito web del bando | http://WWW.URP.CNR.IT |
| Destinatari dell'assegno di ricerca (of target group) |
Experienced researcher or 4-10 yrs (Post-Doc) |
|---|---|
| Importo annuale | 22.000 |
| Valuta | Euro |
| Comprende lo stipendio dell'assegnista | yes |
| Comprende vitto e spese di viaggio | no |
| Nome dell'Ente finanziatore | CNR-IPCF SEDE SECONDARIA DI PISA |
|---|---|
| Tipologia dell'Ente | Public research |
| Paese dell'Ente | Italy |
| Città | PISA |
| Codice postale | 56124 |
| Indirizzo | VIA MORUZZI 1 |
| Sito web | http://WWW.URP.CNR.IT |
| geannino@ipcf.cnr.it |
| L'assegno finanziato/cofinanziato attraverso un EU Research Framework Programme? | H2020 |
|---|
| Data di scadenza del bando | 14/06/2021 |
|---|---|
| Come candidarsi | selezioni_pi@ipcf.cnr.it |