Torna ai risultati della ricercaBando per assegno di ricerca
| Titolo del progetto di ricerca in italiano | SVILUPPO DI TECNOLOGIE PER LA REALIZZAZIONE DI ELETTRODI CONDUTTORI NANOMETRICI |
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| Titolo del progetto di ricerca in inglese | DEVELOPMENT OF TECHNOLOGIES FOR THE PRODUCTION OF CONDUCTIVE ELECTRODES OF NANOMETRIC SIZE |
| Settore Concorsuale | 09 - Ingegneria industriale e dell'informazione |
| S.S.D | - |
| Descrizione sintetica in italiano | La ricerca intende mettere a punto i processi tecnologici per la realizzazione di strati nanometrici di conduttori metallici biologicamente compatibili, tipicamente oro, sopra i pad dei tradizionali circuiti integrati, tali da annullare l’ossido di alluminio nativo e di accedere direttamente all’alluminio metallico sottostante. Il fine è quello di potere usare i circuiti integrati direttamente come piattaforma sperimentale (Instrument-on-chip) per misure su nano-biocampioni. Il lavoro consiste innanzitutto nello studio delle tecniche di sputtering per la rimozione selettiva dell’ossido di alluminio e per la deposizione in vuoto dell’oro. Verranno poi valutate l’affidabilità del processo e la robustezza del film realizzato tramite misure elettrochimiche. Da ultimo verranno svolte le misure atte a dimostrare che in questo modo si possono ottenere elevatissime risoluzioni nella misura di corrente e di impedenza da nanocampioni. |
| Descrizione sintetica in inglese | The research aims to optimize the technological steps toward the realisation of metallic conductors biologically compatible in nanometric layer, typically gold, on top of the standard pads available in the integrated circuits. This conductor should overcome the native oxide of standard pads so to electrically grasp the underlying Al metal contact. The goal is to use Integrated Circuits directly as experimental platforms (Instrument-on-chip) to enhance resolution and sensitivity. The work will first address the sputtering techniques for the selective removal of the Aluminum oxide and for the Gold deposition without breaking the vacuum. The project will then be directed to the evaluation of the reliability and robustness of the deposited layer by means of electrochemical measurements. The project will end with all measurements performed on nabiosamples necessary to investigate and demonstrate the high value of resolution that can be. |
| Data del bando | 05/03/2013 |
| Paesi in cui può essere condotta la ricerca |
United Kingdom Italy Switzerland |
| Paesi di residenza dei candidati |
All |
| Nazionalità dei candidati |
All |
| Sito web del bando | http://www.polimi.it/lavora-con-noi/collaborazioni-di-ricerca/assegnidiricerca/ |
| Destinatari dell'assegno di ricerca (of target group) |
Early stage researcher or 0-4 yrs (Post graduate) |
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| Processo di selezione in italiano (breve descrizione) | Per partecipare alla selezione, si prega di leggere il bando disponibile sul sito web: http://www.polimi.it/lavora-con-noi/collaborazioni-di-ricerca/assegnidiricerca/ |
| Processo di selezione in inglese (breve descrizione) | In order to participate in the selection, please read the notice of selection (“bando”) available at the following website: http://www.polimi.it/lavora-con-noi/collaborazioni-di-ricerca/assegnidiricerca/ |
| Nome dell'Ente finanziatore | Dipartimento di Elettronica, Informazione e Bioingegneria |
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| Tipologia dell'Ente | Public research |
| Paese dell'Ente | Italy |
| Città | MIL.ANO |
| Sito web | http://www.dei.polimi.it |
| assegniricerca@polimi.it |
| L'assegno finanziato/cofinanziato attraverso un EU Research Framework Programme? | No |
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| Data di scadenza del bando | 04/04/2013 - alle ore 00:00 |
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| Come candidarsi | Other |