Bando per assegno di ricerca
Titolo del progetto di ricerca in italiano | Caratterizzazione ed ottimizzazione di una sorgente di scariche a corona |
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Titolo del progetto di ricerca in inglese | Characterization and optimization of a corona discharge source |
Campo principale della ricerca | Physics |
Sottocampo della ricerca | Neutron physics |
Settore Concorsuale | 02 - Scienze fisiche |
S.S.D | FIS/02 - FISICA TEORICA MODELLI E METODI MATEMATICI |
Descrizione sintetica in italiano | l'argomento di ricerca riguarda il miglioramento dell'adesione degli inchiostri in base acquosa usati per la marcatura dei cavi elettrici per alte tensioni, mediante scariche a corona. Il dispositivo generatore delle scariche fa uso di una bobina di Tesla provvista di un elettrodo lambito da un flusso di gas di processo. La ricerca deve individuare la forma dell'elettrodo, il gas di processo e la velocità di efflusso che massimizzino la corrente di scarica e la sua uniformità. Il generatore di tesla dovrà essere portato alla sua massima efficienza. Inoltre verrà studiato un processo di etching con plasma a bassa pressione che migliori l'adesione fra strati adiacenti di gomme Etilen Propileniche, usate come isolanti nei cavi elettrici ad alte tensioni. Il lavoro di ricerca deve individuare la miscela di gas di processo e le condizioni di scarica ottime, utilizzando una sorgente di plasma ottimizzata per le pressioni intermedie di recente sviluppo. |
Descrizione sintetica in inglese | http://www.unimib.it/link/news.jsp?3557898712460037325 the research task is related to improve the adhesion on cable surface of water based inks used for HV cable labelling, by means of corona discharges. The corona discharge source is based on a Tesla coil with an electrode surrounded by a flux of process gas. The aim of the research activity is to determine the electrode shape, the process gas type and its flow rate which maximize dicharge current and its uniformity. Tesla source will be also brought to its maximum efficiency. Furthermore it will be studied a low pressure plasma etching process with the aim to increase adhesion between adjacent layers of Etilen Propilenic rubber, used as isolating coatings on HV cables. An under development plasma source, optimized for intermediate pressure range, will be fully tested. Different gas mixtures and discharge conditions will be tested. The results will be evaluated by measuring peeling strenght after processing. |
Data del bando | 29/11/2013 |
Paesi in cui può essere condotta la ricerca |
Italy |
Paesi di residenza dei candidati |
All |
Nazionalità dei candidati |
All |
Sito web del bando | http://www.unimib.it/link/news.jsp?3557898712460037325 |
Destinatari dell'assegno di ricerca (of target group) |
Experienced researcher or 4-10 yrs (Post-Doc) |
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Nome dell'Ente finanziatore | Università degli Studi Milano-Bicocca |
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Tipologia dell'Ente | Public research |
Paese dell'Ente | Italy |
Città | Milano |
Sito web | http://www.unimib.it |
bandi.assegni_borse@unimib.it |
L'assegno finanziato/cofinanziato attraverso un EU Research Framework Programme? | No |
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Data di scadenza del bando | 19/12/2013 - alle ore 00:00 |
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Come candidarsi | Other |